Расчет поверхностной шероховатости атомистических кластеров тонких пленок с характерным размером десятки нанометров
Григорьев Ф.В., Сулимов В.Б., Тихонравов А.В.

Предложен алгоритм расчета шероховатости поверхности тонких пленок, напыляемых в рамках численных экспериментов. Алгоритм применен к атомистическим кластерам диоксида кремния с характерным размером до 70~нм. Напыление пленки на подложку проводится с использованием метода, развитого ранее на основе классической молекулярной динамики с силовым полем DESIL, созданным специально для моделирования высокоэнергетических процессов напыления. Анализируется зависимость шероховатости от параметров алгоритма и от параметров напыления - температуры подложки и энергии осаждаемых атомов кремния.

Ключевые слова: шероховатость, молекулярная динамика, тонкие пленки, структура диоксида кремния.

Название статьи, аннотация и ключевые слова на английском языке

  • Григорьев Ф.В. – Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, Научно-исследовательский вычислительный центр, Ленинские горы, 119992, Москва; вед. науч. сотр., e-mail: fedor.grigoriev@gmail.com
  • Сулимов В.Б. – Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, Научно-исследовательский вычислительный центр, Ленинские горы, 119992, Москва; зав. лабораторией, e-mail: v.sulimov@srcc.msu.ru
  • Тихонравов А.В. – Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, Научно-исследовательский вычислительный центр, Ленинские горы, 119992, Москва; директор, e-mail: tikh@srcc.msu.ru