Особый режим легирования наноколонн подложки кремния
Тарнавский Г.А.

Проводится компьютерное моделирование ионной имплантации примесей в наноколонны поверхности кремниевой пластины при направлении потока ионов, параллельном основанию пластины.

Ключевые слова: математическое моделирование, легирование кремния, имплантация, донорные и акцепторные примеси

Название статьи, аннотация и ключевые слова на английском языке

Тарнавский Г.А., ведущий науч. сотр., e-mail: gennady.tarnavsky@gmail.com - Институт вычислительной математики и математической геофизики СО РАН, просп. Лаврентьева, 6, 630090, Новосибирск